激光雕刻氣味處理器 雕刻刺鼻氣味排煙凈化

 激光雕刻氣味處理器 雕刻刺鼻氣味排煙凈化

KN401除味系統凈化原理：

UV光氧催化氧化廢氣處理設備，對有機揮發(fā)性廢氣，首要進(jìn)行光解與催化氧化。光解首要是，通過(guò)高能UV紫外線(xiàn)對空氣中的氧氣發(fā)作分化作用，推進(jìn)氧分子分化變成游離態(tài)的氧，因為游離態(tài)氧上的正負電子處于不平衡狀態(tài)，因而游離態(tài)氧極易與氧分子生成臭氧，而臭氧的強氧化作用可以推進(jìn)有機揮發(fā)性廢氣的分化。在UV高效設備內安裝著(zhù)紫外線(xiàn)放電管，紫外線(xiàn)放電管發(fā)作的光子能量，可以高達647KJ/mol、742KJ/mol，如此高的光子能，可以迅速裂解小于該能量的有機揮發(fā)性廢氣的分子鍵，使其轉變?yōu)闊o(wú)機小分子物質(zhì)。

如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、甲二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無(wú)機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線(xiàn)光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

產(chǎn)品特點(diǎn)

外觀(guān)及構造

◆外觀(guān)簡(jiǎn)潔大方，穩重典雅。機身一體化設計，采用金屬框架結構，優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板靜電噴塑工藝，持久

耐用。配以不銹鋼拉絲面板更顯經(jīng)典細膩，令人耳目一新！

◆底部裝在腳墊，可防止機器移位。

凈化原理：

◆化學(xué)式： 利用特制的高能高臭氧 UV 紫外線(xiàn)光束照射有機氣體及空氣中的氧分子，裂解有機氣體的分

子鍵，并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游

離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無(wú)害或低害的化合物，如 CO2、H2O 等。從而達到凈化氣

體的效果。

UV 光氧凈化器反應工程式：

1、UV + 高分子有機物→低分子有機物

2、UV + 空氣( O2) →O3

3、低分子有機物+ O3→ CO2+ H2O +N2